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碳化硅无压烧结炉

碳化硅无压烧结炉 是一种用于在常压或低压环境下烧结碳化硅(SiC)陶瓷材料的设备。与热压烧结不同,无压烧结无需外部压力,主要依赖高温促进材料致密化。
  • 详细介绍

碳化硅无压烧结炉 是一种用于在常压或低压环境下烧结碳化硅(SiC)陶瓷材料的设备。与热压烧结不同,无压烧结无需外部压力,主要依赖高温促进材料致密化。

主要特点

  1. 无压环境:烧结过程在常压或低压下进行,无需额外压力。
  2. 高温烧结:温度通常在1800°C至2200°C之间,确保碳化硅充分致密化。
  3. 惰性气氛:常用氩气或氮气等惰性气体,防止材料氧化。
  4. 精确控温:配备先进温控系统,确保温度均匀性和稳定性。
  5. 高纯度炉膛:炉膛材料为高纯度石墨或陶瓷,避免污染。

应用领域

  1. 陶瓷材料:用于烧结碳化硅陶瓷,适用于高温、耐磨、耐腐蚀环境。
  2. 电子工业:制造半导体器件中的碳化硅基板。
  3. 航空航天:生产耐高温、高强度的碳化硅复合材料。
  4. 机械制造:制造高硬度、耐磨的机械部件。

优势

  1. 简化工艺:无需复杂加压设备,操作简便。
  2. 成本效益:设备成本和维护费用较低。
  3. 材料性能:烧结产品具有高密度和优异性能。

碳化硅无压烧结炉的组成结构主要包括以下几个部分:

  1. 炉体
    • 外壳:通常由不锈钢或碳钢制成,具备良好的机械强度和耐腐蚀性。
    • 保温层:采用陶瓷纤维或石墨等材料,用于隔热,减少热量损失。
  2. 加热系统
    • 加热元件:常用石墨或钼作为加热体,能够承受高温。
    • 电源系统:提供电能,确保加热元件正常工作。
  3. 温控系统
    • 热电偶:用于实时监测炉内温度。
    • 温控仪表:根据热电偶反馈,调节加热功率,保持温度稳定。
  4. 气氛控制系统
    • 气体供应系统:提供惰性气体(如氮气、氩气)或还原性气体(如氢气),防止材料氧化。
    • 气体流量计:调节气体流量,确保炉内气氛稳定。
  5. 冷却系统
    • 水冷系统:通过循环水冷却炉体和加热元件,防止过热。
    • 风冷系统:部分设备配备风扇,加速冷却过程。
  6. 装载系统
    • 料架:用于放置待烧结的碳化硅制品。
    • 料车:方便装卸料架,提升操作效率。
  7. 控制系统
    • PLC控制系统:自动化控制整个烧结过程,包括温度、气氛和冷却等。
    • 人机界面:操作员通过触摸屏或计算机监控和调整参数。
  8. 安全系统
    • 压力传感器:监测炉内压力,防止异常。
    • 报警系统:在温度、压力或气体流量异常时发出警报,确保安全。

这些部分协同工作,确保碳化硅无压烧结炉的高效、稳定运行。

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